氫氣純化裝置工作原理： |
| 采用非蒸散型鋯鋁合金16吸氣劑為凈化劑,該吸氣劑主要吸氣相為Zr5AL4、Zr5AL3、Zr3AL2、Zr2AL等多種金屬間化合物，活性高，擴散活化能低，當表面吸附著氣體時，在一定溫度下容易向體內擴散，具有吸氣速率高、吸氣容量大的特點。激活后在最佳吸氣溫度范圍內能有效的吸收O2、N2、CO2、CO、H2、CH4和水汽等，鋯鋁合金不吸收He、Ar、Ne等惰性氣體。所以使用該吸氣劑來純化精制Ar、Ne、He等惰性氣體。 |
| 典型用途： |
| 本產品凈化器采用特殊結構，具有接觸面積大，阻力小，凈化效率高，熱功損耗小等優點。本裝置可與區熔硅單晶爐配套使用可用于激光器、濺射、半導體生產，氣相色譜儀、特殊燈炮、稀有金屬加工等需要用高純氬氣的生產技術領域。 |
| 主要技術性能： |
| YA-1型 YA-2型 處理氣量 (Nm3/h) 1.0 2 .0 最大工作壓力 (Mpa) 0.4 0.4 反應器工作溫度 (℃) 650-700 650-700 吸氣劑激活溫度 (℃) 800 800 加熱功率 (kW) 1．5 2．5 原料氣體純度 (%) ≥99.99 ≥99.99 純化后氣體純度 (%) ≥99.9999 ≥99.9999
氧氣純化裝置工作原理： 該氧氣純化裝置采用特制催化劑，以工業普氧為原料氣，經催化吸附、過濾的方法除去氧中雜質氫、甲烷、一氧化碳、二氧化碳、水氣和塵埃，獲得高純氧氣。典型用途： 本產品結構簡單，系統氣密性良好，所有催化劑可長期使用無需再生，吸附劑可在產品內再生后重復使用。本產品可廣泛應用于半導體元器件、光導纖維、電子、化工儀表等需要高純氧的各工業部門。YCZ-5/8、YCZ10-8中壓氧氣純化裝置適用于需要大量高純氧氣半導體、光纖、顯象管等生產部門。主要技術性能：原料氣指標 純氣指標 含氫量 露點 含氫量 露點 ≤2% ≤-10℃ ≤1 ppm ≤-70℃
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